Clean Technology (청정기술)

The Korean Society of Clean Technology (한국청정기술학회)
권호 표지

NO and $SO_2$ Removal by Dielectric Barrier Discharge-Photocatalysts Hybrid Process

유전체 장벽 방전-광촉매 복합공정에 의한 NO와 $SO_2$ 제거

  • Kim, Dong-Joo (Department of Chemical Engineering, Kangwon National University) ;
  • Nasonova, Anna (Department of Chemical Engineering, Kangwon National University) ;
  • Kim, Kyo-Seon (Department of Chemical Engineering, Kangwon National University)
  • 김동주 (강원대학교 공과대학 화학공학과) ;
  • ;
  • 김교선 (강원대학교 공과대학 화학공학과)
  • Published : 2007.06.30
Download PDF
⟨ Previous Next ⟩

Abstract

In this study, we analyzed experimently the NO and $SO_2$ removal by the dielectric barrier discharge-photocatalysts hybrid process. The glass spheres were used as a dielectric material for dielectric barrier discharge and the $TiO_2$ photocatalysts were coated onto those spheres by the dip-coating method. The $TiO_2$ particles were coated in the sponge-shape, which has the larger surface area. As the voltage applied to the plasma reactor, the pulse frequency of applied voltage, or the residence time increases, the NO and $SO_2$ removal efficiencies increase. The increase in the supplied concentrations of NO and $SO_2$ leads to the higher energy for NO and $SO_2$ removal and the NO and $SO_2$ removal efficiencies decrease. These experimental results can be used as a basis to design the dielectric barrier discharge-photocatalysts hybrid process to remove NO and $SO_2$.

본 연구에서는 유전체 장벽 방전-광촉매 복합 공정에 의한 NO 및 $SO_2$ 제거를 실험적으로 분석하였다. 유전체 장벽 방전을 위해 유전체로서 유리구가 사용되었고 $TiO_2$ 광촉매 입자는 딥코팅(dip-coating) 방법에 의해 높은 비표면적을 가지는 스펀지 형태로 유리구에 코팅되었다. 플라즈마 반응기에 인가된 전압이나 펄스 주파수, 혹은 기체의 체류시간이 증가함에 따라, NO 및 $SO_2$의 제거효율은 증가하였다. NO 및 $SO_2$ 공급농도 증가하면 NO 및 $SO_2$ 제거에 더 많은 에너지가 요구되어 NO 및$SO_2$의 제거효율이 감소하였다. 본 연구의 실험 결과들은 NO 와 $SO_2$를 제거하기 위한 유전체 장벽 방전-광촉매 복합 공정 설계의 기초 자료로 사용될 수 있다.

Keywords