AMOLED 재료 기술

  • 육경수 (단국대학교 고분자공학과) ;
  • 이준엽 (단국대학교 고분자공학과) ;
  • 김성현 (서울대학교 화학생물공학부) ;
  • 장정식 (서울대학교 화학생물공학부)
  • Published : 2007.10.31

Abstract

Keywords

References

  1. C. W. Tang, US patent 4356429 (1982)
  2. G.. Gu, V. Bulovic, P. E. Burrows, S. R. Forrest, M. E. Thompson, Appl. Phys. Lett., 68, 2606 (1996) https://doi.org/10.1063/1.116196
  3. P. E. Burrows, V. Khalfin, G. Gu, S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett., 73, 435 (1998) https://doi.org/10.1063/1.121891
  4. G. Partharathy, P. E. Burrows, V. Khalfin, V. G. Kozlov, S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett., 72, 2138 (1998) https://doi.org/10.1063/1.121301
  5. G. Gu, V. Khalfin, S. R. Forrest, Appl. Phys. Lett., 73, 2399 (1998) https://doi.org/10.1063/1.122446
  6. G. Gu, G. Partharathy, P. E. Burrows, P. Tian, I. G. Hill, A. Kahn, S. R. Forrest, J. Appl. Phys., 86, 4067 (1999) https://doi.org/10.1063/1.371331
  7. P. E. Burrows, G. Gu, S. R. Forrest, E. P. Vicenzi, T. X. Zhou, J. Appl. Phys., 87, 3080 (2000) https://doi.org/10.1063/1.372303
  8. A. Yamamori, S. Hayashi, T. Koyama, Y. Taniguchi, Appl. Phys. Lett., 78, 3343 (2001) https://doi.org/10.1063/1.1359485
  9. M-H. Lu, M. S. Weaver, T. X. Zhou, M. Rothman, R. C. Kwong, M. Hack, J. J. Brown, Appl. Phys. Lett., 81, 21 (2002)
  10. H. Riel, S. Korg, T. Beiertein, B. Ruhstaller, W. Ries, Appl. Phys. Lett., 82, 466 (2003) https://doi.org/10.1063/1.1537052
  11. S. Han, X. Feng, Z. H. Lu, D. Johnson, R. Wood, Appl. Phys. Lett., , 82, 2715 (2003) https://doi.org/10.1063/1.1567048
  12. C. Chen, P. Hsieh, H. Chiang, C. Lin, H. Wu, C. Wu, Appl. Phys. Lett., 83, 5127 (2003) https://doi.org/10.1063/1.1635076
  13. S. Son, S.-H. Yoon, J-G. Jang, M.-S. Kang, S.-Y. Jeon, SID digest, 52 (2004)
  14. M. Pfeiffer, K. Leo, X. Zhou, J. S. Huang, M. Hofmann, A. Werner, J. Blochwitz, Org. Electronics, 4, 89 (2003) https://doi.org/10.1016/j.orgel.2003.08.004
  15. M. Pfeiffer, S. R. Forrest, K. Leo, M. E. Thompson, Adv. Mater. 14, 1633 (2002) https://doi.org/10.1002/1521-4095(20021118)14:22<1633::AID-ADMA1633>3.0.CO;2-#
  16. J. Blochwitz, M. Pfeiffer, T. Fritz, K. Leo, Appl. Phys. Lett. 73, 729 (1998) https://doi.org/10.1063/1.121982
  17. M. Pfeiffer, A. Beyer, T. Fritz, K. Leo, Appl. Phys. Lett. 73, 3202 (1998) https://doi.org/10.1063/1.122718
  18. J. Blochwitz, T. Fritz, M. Pfeiffer, K. Leo, D. M. Alloway, P. A. Lee, N. R. Armstrong, Org. Electronics, 2, 97 (2001) https://doi.org/10.1016/S1566-1199(01)00016-7
  19. J. Endo, T. Matsumoto, J. Kido, Jpn. J. Appl. Phys. 41, L358 (2002) https://doi.org/10.1143/JJAP.41.L358
  20. J. Y. Lee, Appl. Phys. Lett. 89, 253501 (2006) https://doi.org/10.1063/1.2410224
  21. J. Meyer, S. Hamwi, T. Bulow, H.-H. Johannes, T. Riedl, and W. Kowalsky, Appl. Phys. Lett. 91, 113506 (2007) https://doi.org/10.1063/1.2784176
  22. L. S. Hung, C. W. Tang, and M. G. Manson, Appl. Phys. Lett. 70, 152 (1997) https://doi.org/10.1063/1.118344
  23. S. Shi, and D. Ma, Appl. Surf. Sci. 252, 6337 (2006) https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2005.08.036
  24. H. Heil, J. Steiger, S. Korg, M. Gastel, H. Ortner, H. von Seggern, M. StoBel, J. Appl. Phys. 89, 420 (2001) https://doi.org/10.1063/1.1331651
  25. M. G. Mason, C. W. Tang, L.-S. Hung, P. Raychaudhuri, J. Madathil, D. J. Giesen, L. Yan, Q. T. Le, Y. Gao, S.-T. Lee, L. S. Liao, L. F. Cheng, W. R. Salaneck, D. A. dos Santos, J. L. Bredas, J. Appl. Phys. 89, 1756 (2001)
  26. Y. Park, J. Lee, S. K. Lee, D. Y. Kim, Appl. Phys. Lett. 79, 105 (2001) https://doi.org/10.1063/1.1383798
  27. J. Lee, Y. Park, S. K. Lee, E.-J. Cho, D. Y. Kim, H. Y. Chu, H. Lee, L. M. Do, T. Zyung, Appl. Phys. Lett. 80, 3123 (2002) https://doi.org/10.1063/1.1474602