Abstract
This study reports on the efficiency of cleaning enameled magnet wire using a sulfuric acid $H_2SO_4$ and removal of dissolved organic material using hydrogen peroxide $H_2O_2$ and nitric acid $HNO_3$ at $80^{\circ}C$. The method involves the addition of pure $H_2SO_4$ and $H_2O_2$ or $HNO_3$. Layers of enameled organic material were dissolved by 90% $H_2SO_4$ and the solution was maintained as 35% $H_2O_2$ or 60% $HNO_3$. $H_2O_2$ content in aqueous $H_2O_2$ was maintained as 8.8 : 1.0. An initial concentration of $H_2SO_4$ in dissolution conditions was accomplished within 15 min, with a stripping time of about 2 h. The concentrations of $H_2O_2$ and $HNO_3$ in the processing bath were relatively low, but sufficient enough to produce an effective amount of power in the bath for the removal of the enamel material. The cleaning effect of enameled organic material involves the dehydration by $H_2SO_4$ and the oxidation by $H_2O_2$ or $HNO_3$.
본 연구에서는 황산을 이용하여 폐에나멜동선에서 에나멜의 효과적인 제거와 실험온도 $80^{\circ}C$ 상에서 과산화수소와 질산을 사용하여 유기물질의 분해에 대하여 연구하였다. 무균조에 에나멜동선과 황산을 넣고 과산화수소, 질산을 첨가하였다. 동선의 표면 에나멜은 90% 황산에 분해되었으며, 이 용액은 35% 과산화수소 또는 60% $HNO_3$에 분해되었다. 과산화수소에서 과산화수소 황산의 $H_2O$와의 비는 적어도 8.8 : 1.0 이었다. 초기에 황산농도에서의 분해는 15분내에 이루어졌으며 박리시간은 약 2 시간 이었다. 반응조내에서 과산화수소와 질산농도는 상대적으로 낮지만 에나멜 물질을 제거하기에는 충분한 양이었다. 동선에 피복된 에나멜 물질을 제거하는 것은 황산에 의한 탈수반응과 $H_2O_2$와 $HNO_3$에 의한 산화분해반응에 있다.
