Measurement of Thin Film Thickness of Patterned Samples Using Spectral Imaging Ellipsometry

분광결상 타원계측법을 이용한 패턴이 형성된 나노박막의 두께측정

  • 제갈원 (한국표준과학연구원 광기술표준부) ;
  • 조용재 (한국표준과학연구원 광기술표준) ;
  • 조현모 (한국표준과학연구원 광기술표준) ;
  • 김현종 (한국표준과학연구원 광기술표준) ;
  • 이윤우 (한국표준과학연구원 광기술표준) ;
  • 김수현 (한국표준과학연구원 기계공학과)
  • Published : 2004.06.01

Abstract

반도체 제조산업과 나노, 바이오 산업의 비약적 발전에 따라 게이트 산화막(gate oxide)과 같이 반도체 제조공정에서 사용되는 유전체 박막(dielectric film)의 두께는 수 $\mu\textrm{m}$에서 수 nm 에 이르기까지 다양할 뿐 아니라 얇아지고 있으며, 또한 이러한 박막들이 다층으로 복잡하게 적층된 다층 박막의 응용이 높아지는 추세이다. 따라서, 반도체 및 광통신 소자, 발광소자, 바이오 칩 어레이 등과 같은 나노박막을 이용하는 산업에서는 박막의 두께 측정을 더욱 정확하고, 보다 빠르며 효율적으로 측정할 수 있는 박막 두께 측정용 계측기가 요구된다.(중략)

Keywords

References

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