참고문헌
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- Plasma Chem. Plasma Phys. v.17 Plasma etching of Ⅲ-Ⅴ semiconductor in BCl₃chemistries: Part Ⅱ: InP and related compounds J.W.Lee;E.S.Lambers;C.R.Abernathy;S.J.Pearton;W.S.Hobson;F.Ren https://doi.org/10.1007/BF02766813
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