Journal of the Korean Magnetics Society (한국자기학회지)

The Korean Magnetics Society (한국자기학회)
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Laser Micro-machining technology for Fabrication of the Micro Thin-Film Inductors

초소형 박막 인덕터 제작을 위한 레이저 미세가공 기술 개발

  • 안성준 (선문대학교 정보통신전공) ;
  • 안승준 (선문대학교 차세대반도체기술연수소) ;
  • 김대욱 (선문대학교 차세대반도체기술연수소) ;
  • 김호섭 (선문대학교 차세대반도체기술연수소) ;
  • 김철기 (충남대학교 신소재공학부)
  • Published : 2003.06.01
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Abstract

We have developed laser micro-machining technology for fabrication of the micro thin-film inductors. After the thin layers of FM/M/FM films were coated to the silicon substrate by using the conventional sputtering method, the new laser machining was applied to the patterning process that used to be carried out by the semiconductor lithography procedure. A CW Nd:YAG laser operating in TEM$\sub$00/ mode was actively Q-switched to obtain the very short pulse of 200 ns. The laser micro-machining process with pulse energy and repetition rate have been optimized as 5 mJ/pulse and 5 kHz, respectively, to obtain the line resolution as fine as 20 $\mu\textrm{m}$.

스퍼터링 방법으로 FM/M/FM의 다층박막을 증착한 다음 초소형 박막 인덕터를 제작하기 위하여 반도체 공정을 대체할 수 있는 레이저 미세가공 기술을 개발하였다. TE $M_{00}$ 모드로 발진하는 CW Nd:YAG 레이저를 active Q-switching 하여 펄스폭이 200 ns인 극 초단 레이저 펄스를 얻었다. 레이저 미세가공 조건을 반복율 5 kHz, 펄스 당 에너지 5 mJ/pulse로 최적화 하여 분해능이 20 $\mu\textrm{m}$인 line patterning을 얻었다.

Keywords

References

  1. 한국자기학회지 v.8 이창호;신동훈;남승의;김형준
  2. 전기전자재료학회지 v.10 김현식;송재성;오영우
  3. IEEE. Trans. on Magnetics v.35 T.Saito;K.Tsutsui;S.Yahagi https://doi.org/10.1109/20.801123
  4. IEEE. Trans. on Microwave Theory and Tech. v.48 J.M. Lopez-Villegas;J.Samitier;C.Cane;P.Losantos;J.Bausells https://doi.org/10.1109/22.817474
  5. IEEE. Microwave and Guided Wave Lett. v.9 M.Park;C.H.Kim;C.S.Kim;M.Y.Park;S.D.Kim;Y.S.Youn;H.K.Yu https://doi.org/10.1109/75.819416
  6. J. of Mag. and Mag. Mat. v.177-181 H.S.Kim;Y.W.Oh;J.S.Song;B.K.Min https://doi.org/10.1016/S0304-8853(97)00859-7
  7. IEEE J. of Quantum Electronics v.QE-33 X.Liu;D.Du;G.Mourou
  8. Laser in Industry S.S.Charschan
  9. J. Appl. Phys. v.70 H.Beyer;W.Ross;R.Rudolph;A.Michaelis;J.Uhlenbusch;W.Viol https://doi.org/10.1063/1.350246
  10. J. Mater. Res. v.12 V.Oliveira;R.Vilar https://doi.org/10.1557/JMR.1997.0418
  11. SPIE v.3618 Kunihiko Washio https://doi.org/10.1117/12.352686
  12. IEEE. J. of Quantum Electronics v.QE-8 U.C.Paek;F.P.Gagliano
  13. Appl. Phys. Lett. v.64 D.Du;X.Liu;G.Korn;J.Squier;G.Mourou https://doi.org/10.1063/1.111350
  14. Industrial Application of Lasers J.F.Ready
  15. Opt. Commun. v.56 D.Strickland;G.Mourou https://doi.org/10.1016/0030-4018(85)90120-8
  16. Jpn .J. Appl. Phys. v.37 S.J.Ahn;H.W.Kwak https://doi.org/10.1143/JJAP.37.L789