Abstract
In this paper, the fabricated power PHEMT devices for millimeter-wave that is below a gate-length of 0.2 $\mu\textrm{m}$ using electronic beam lithography technologies, and the DC and frequency characteristics and an output power characteristics were Measured at the various bias conditions. The unit process that is used in PHEMT's manufacture used that low-resistance ohmic contact, air-bridge and back-side lapping process technologies, and so on. The fabricated power PHEMT have an S521 gain of 4 dB and a maximum transconductance(gm) of 317 mS/mm, an unilateral current gain(fT) of 62 GHz, a maximum oscillation frequency(fmax) of 120 GHz at 35 GHz, and a maximum power output(Pmax) of 16 dBm, a power gain(GP) of 4 dB and a drain efficiency(DE) of 35.5 %.
본 논문에서는 전자선 묘화 장비를 이용하여 게이트 길이가 0.2 $\mu\textrm{m}$ 이하인 밀리미터파용 전력 PHEMT 소자를 제작하고 DC 특성과 주파수 특성 그리고 전력 특성을 측정하고 분석하였다. PHEMT의 제작에 사용된 단위공정은 저 저항 오믹 접촉, 에어 브릿지 및 후면 가공 공정기술 등을 이용하였다. 제작된 전력용 PHEMT는 35 GHz의 중심주파수에서 4 dB의 S21 이득과 317 mS/mm의 최대 전달컨덕턴스 그리고 62 GHz의 차단주파수와 12G GHz의 최대 공진주파수를 나타내었다. 또한 측정된 전력 특성은 35.5 %의 드레인 효율과 16 dB의 최대 출력전력 그리고 4 dB의 전력 이득을 나타내었다.