UV 차단렌즈의 제작에서 광 투과율 Edge 및 Half Point의 Dippy 시간의존성

Dippy Time Dependence of Transmittance Edge and Half Point in the UV cut lens' manufacture

UV 차단 렌즈 UV solution을 이용한 dip method로 제작하여 광 투과율과 광 반사율을 측정하였다. 광 투과율의 half point 파장 및 edge 파장이 dip 시간의 존성인 exponetial decay형식에 잘 적용되었다. $$W=W_0+A_1{e}{x}{p}[-(x-x_1)/t_1]$$ 광 투과율의 half point 파장은 358 nm 에서 408 nm로 이용하였고, edge 파장은 340 nm에서 398 nm로 이동하였다. 광 반사율 주 peak 380 nm는 dip 시간이 클수록 세기는 작아지고 장파장 쪽으로 이동하였으며, dip 시간 10분에서 UV solution의 성분 peak가 나타나기 시작하였다.

It was measured the transmittance and the reflectance by tie dip method using the UV cut lens' UV solution. The half point and the edge wavelength of the transmittance were wry well applied to the eqution of a dip time dependence. $$W=W_0+A_1{e}{x}{p}[-(x-x_1)/t_1]$$ The half point wavelength of the transmittance shifted from 358 nm to 408 nm and the edge wavelength moved from 340 nm to 398 nm. The more dip time had long the less intensity of main reflectance peak-380 nm was small and shifted to long wavelength regions. And the component peak of UV solution began to show in dip time-10 min.