Alcohol-Assisted Photocrosslinking of Poly(vinyl alcohol)for Water-Soluble Photoresists

References

1. IBM J. Res. Develop. v.41 Ito, H.
2. Chem. Mater. v.7 Vekselman, A. M.;Zhang, C.;Darling, G. D.
3. Polymer v.36 Ahn, K.-D.;Koo, D.-I.;Wilson, C. G.
4. J. Appl. Polym. Sci. v.66 Kim, S.-T.;Kim, J.-B.;Chung, c.-M.;Ahn, K.-D.
5. Polymer v.24 Frechet, J. M. J.;Eichler, E.;Ito, H.;Wilson, c. G.
6. Reac. Func. Polym. v.40 Chung, C.-M.;Ahn, K.-D.
7. Chem. Mater. v.11 Harvard, J. M.;Shim, S.-Y.;Frechet, J. M.J.;Lin, Q.;Medeiros, D. R.;Wilson, C. G,.;Byers, J. D.
8. Polymer v.24 Frechet, J. M. J.;Eichler, E.;Ito, H.;Wilson, C. G.
9. Chem. Mater. v.11 Harvard, J. M.;Shim, S.-Y.;Frechet, J. M. J.;Lin, Q.;Medeiros, D. R.;Wilson, C. G.;Byers, J. D.
10. Macromolecules v.32 Harvard, J. M.;Vladimirov, N.;Frechet, J. M. J.;Yamada, S.;Wilson, C. G.;Byers, J. D.
11. J. Polym. Sci., Polym. Chem. v.A35 Aoki, H.;Tokuda, T.;Nagasaki, Y.;Kato, M.
12. Makromol. Chem.,Macromol. Chem. Phys v.190 Shrai, M.;Katsuta, N.;Tsunooka, M.;Tanaka, M.
13. Angew. Chem. Int. Ed. v.39 Kim, J.-M.;Chang, T.-E.;Kang, J.-H.;Park, K. H.;Han, D. K.;Ahn, K.-D.
14. Adv. Mater. v.11 Kim, J.-M.;Chang, T.-E.;Kang, J.-H.;Han, D. K.;Ahn, K. D.
15. Chem. Mater. v.10 Kim, J.-M.;Kang, J.-H.;Han, d. K.;Lee, C.-W.;Ahn, K.-D.
16. Chem. Lett. v.360 Kim, J.-M.;Kim, J.-Y.;Kim, T.-H.;Han, D.-K.;Ahn, K.-D.
17. J. Photopolym. Sci. Technol. v.11 Lee, C.-W.;Shin, J.-H.;Kang, J.-H.;Kim, J.-M.;Han, D.-K.;Ahn, K.-D.
18. J. Photopolym. Sci. Technol. v.11 Ahn, K. D.;Kang, J.-H.;Lee, C.-W.;Kim, J.-M.;Han, d.-K.;Lee, J.-H.;Cho, I.;Moon, S.-Y.;Koo, J.-S.;Lee, S.-K.
19. U. S. Patent 5,648,196 Frechet, J. M. J.;Shim, S.-Y.