도금폐수 중의 시안착이온의 전기화학적 분해 및 아연 회수에 관한 연구

Electrochemical Destruction of Cyanide Ions and Recovery of Zinc Ions from Electroplating Wastewater

  • 우림 ;
  • 노병호 (아뜨망클린텍시스템 및 엔지니어링) ;
  • 정철 (아뜨망클린텍시스템 및 엔지니어링) ;
  • 이용일 (창원대학교 자연과학대학 화학과)
  • Niu, Lin (Department of Chemistry, Shandong University) ;
  • Ro, Byung-Ho (Artman Clean Tech System & Technology Co.) ;
  • Jung, Cheul (Artman Clean Tech System & Technology Co.) ;
  • Lee, Yong-Ill (Department of Chemistry, Changwon National University)
  • 투고 : 2000.06.14
  • 발행 : 2000.12.25

초록

도금폐수중의 시안이온의 전기화학적 분해 및 아연이온의 제거에 관한 연구를 백금으로 도금된 티타늄 양극과 스텐레스 음극 전극을 사용하여 수행하였다. 전기분해시간, 셀전류, 첨가제, 염화물농도등의 여러 가지 실험파라메터를 연구하여 도금폐수중의 시안화물 분해 및 수용액중의 아연이온의 효과적인 제거에 사용하였다. 셀전류와 첨가제의 종류에 따라 시안이온의 분해 및 아연이온의 제거 효율이 크게 영향을 받는 것이 발견되었다. 시안이온의 분해 및 아연이온의 제거를 위한 경제적이며 높은 효율을 나타내는 최적화된 조건은 1시간의 전기분해시간, 12A의 전류, 그리고 0.5 M NaCl 첨가제를 사용하여 확립하였다. 양극에서의 시안이온의 분해에 관한 반응메카니즘도 논의하였다.

A study has been made for the electrochemical destruction of cyanide ions and removal of zinc ions from a simulated electroplating wastewater by the use of a platinum platized-titanium anode and a stainless steel cathode. Several experimental parameters, including electrolysis time, cell current, additives, and chloride concentration, have been investigated and used for efficient destruction of cyanide waste and removal of zinc ions from aqueous solutions. It was found that cell current and type of additives gave great effects on the destruction of cyanide ions and removal of zinc ions. The optimized conditions (electrolysis time: 1hr, current: 12A, additive: 0.5 M NaCl) have been defined to destroy cyanide ions and remove zinc ions with high efficiency and low operation cost. The proper reaction mechanism leading to the destruction of cyanide on the anode has also been discussed.

키워드

참고문헌

  1. Pollution Control in Metal Finishing M. R. Watson
  2. Metal Cyanide Containing Wastes Treatment Technologies S. A. K. Palmer;M. A. Breton;T. J. Nunno;D. M. Sullivan
  3. J. Electrochem. Soc. v.24 G. H. Clevenger;M. L. Hall
  4. J. Electrochem. Soc. v.105 J. T. Byrne;W. S. Turnley;A. K. Williams
  5. Plating and Surface Finishing v.38 D. T. Chin;B. Eckert
  6. Chem. Eng. Commum. v.38 T. C. Tan;W. K. Teo;D. T. Chin
  7. Water Research v.24 S. P. Ho;Y. Y. Wang;C. C. Wan
  8. J. Electrochem. Soc. v.137 B. Wels;D. C. Johnson
  9. Water Science and Technology v.38 L. Szpyrkowiez;F. Zilio-Grandi;S. N. Kaul;S. Rigoni-Stern
  10. J. Electrochem. Soc. v.146 C. S. Hofsech;T. W. Champman
  11. Water Research v.33 U. B. Ogutveren;E. Toru;S. Koparai