마이크로전자및패키징학회지 (Journal of the Microelectronics and Packaging Society)
- 제7권2호
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- Pages.1-6
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- 2000
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- 1226-9360(pISSN)
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- 2287-7525(eISSN)
X-선 노광용 마스크 제작공정에 관한 연구
A Study on the Mask Fabrication Process for X-ray Lithography
초록
X-선 노광용 마스크의 재료로서 SiC와 Ta박막을 각각 ECR플라즈마 CVD, 스퍼터링 장비를 이용하여 증착한 뒤 잔류응력, 미세구조, 표면상태, 그리고 화학적 결합상태 등을 조사하였고, ECR etching system을 이용하여 Ta박막 미세 식각 특성을 연구하였다. SiC박막은
X-ray lithography mask with SiC membrane and Ta absorber patterns has been fabricated using ECR plasma CVD, d.c. magnetron sputtering, and ECR plasma etching. The stress of stoichiometric SiC film was adjusted by rapid thermal annealing under
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