한국전기전자재료학회논문지 (Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers)
- 제13권10호
- /
- Pages.817-821
- /
- 2000
- /
- 1226-7945(pISSN)
- /
- 2288-3258(eISSN)
플라즈마 화학기상 증착방식으로 성장시킨 비정질 실리콘 카바이드 박막의 열처리 효과에 관한 특성분석
Investigation of Annealing Effect for a-SiC:H Thin Films Deposited by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
초록
In this work, we have investigated the dependence of annealing temperature(T