Abstract
For 6H-SiC crystals which was obtained by sublimation growth, the formation of micropipes and internal planar defects was discussed in consideration of the inter-relationship between mass adsorption behavior and the defects origin on the growth interface on the basis of KSV theory and the the step growth pattern on the vicinal plane. Micropipes and planar defects was formed in the region which the step could not be grown by impurities impinging. It was realized that the internal defects formation was related to the crystallographic step planes formed on the growth interface and the migration of the molecules adsorbed on it.
승화 성장법을 적용하여 성장된 6H-SiC 결정에 대하여, KSV 이론과 성장 계면에서의 미사면(vicinal plane)상의 step 성장 양상을 근거로 하여, 성장 계면에서의 물질 흡착의 거동과 결함의 생성간의 상호 관계를 고찰하고, micropipes와 내부 결함의 생성 원인을 논하였다. micropipe와 면결함등의 결함들은 ledge 혹은 kink에 침입된 불순물에 의하여 step 성장의 진행이 방해받는 부분에 형성되었다. 따라서, SiC 결정에서 이들 결함의 생성은 SiC 결정 성장 계면에 형성되는 결정학적 step 성장면과 분자 또는 원자들의 격자 이동에 관련이 있음을 알 수 있었다.
