Bulletin of the Korean Chemical Society

  • 제19권3호
  • /
  • Pages.281-283
  • /
  • 1998
  • /
  • 0253-2964(pISSN)
  • /
  • 1229-5949(eISSN)
대한화학회 (Korean Chemical Society)
권호 표지
DOI QR코드

DOI QR Code

Chemical Vapor Deposition of MgO Films Using a New Single Source

  • 발행 : 1998.03.20
PDF 다운로드
⟨ 이전 논문 다음 논문 ⟩

초록

키워드

참고문헌

  1. Thin Solid Films v.232 Wang, F.;Muller, S.;Wordenweber, R.
  2. J. Appl. Phys. v.76 Tseng, M. Z.;Jiang, W. N.;Hu, E. L.
  3. Appl. Phys. Lett. v.64 Harshavardhan, K. S.;Pique, A.;Green, S. M.;Patel, K.;Zhang, J. R.;Belohoubek, E.;Edwards, R.;Venkatesan, T.;Denlinger, E. J.;Pendrick, V.;Kalokitis, D.;Fathy, A.;Wu, X. D.;Rajeswari, M.;Smith, A.
  4. J. Mater. Res. v.10 Dean, K. A.;Buchholz, D. B.;Marks, L. D.;Chang, R. P. H.;Vuchic, B. V.;Merkle, K. L.;Studebaker, D. B.;Marks, T. J.
  5. Appl. Phys. Lett. v.60 Hsu, W.-Y.;Raj, R.
  6. Appl. Phys. Lett. v.60 Nashimoto, K.;Fork, D. K.;Geballe, T. H.
  7. Appl. Phys. Lett. v.63 Fork, D. K.;Anderson, G. B.
  8. Appl. Phys. Lett. v.62 Hung, L. S.;Agostinelli, J. A.;Mir, J. M.;Zheng, L. R.
  9. J. Appl. Phys. v.77 Srikant, V.;Tarsa, E. J.;Clarke, D. R.;Speck, J. S.
  10. Jpn, J. Appl. Phys. v.34 Masuda, A.;Yamanaka, Y.;Tazoe, M.;Yonezawa, Y.;Morimoto, A.;Shimizu, T.
  11. J. Appl. Phys. v.62 Tonouchi, M.;Sakaguchi, Y.;Kobayashi, T.
  12. Appl. Phys. Lett. v.60 Chang, L. D.;Tseng, M. Z.;Hu, E. L.;Fork, D. K.
  13. Appl. Phys. Lett. v.61 Prusseit, W.;Corsepius, S.;Baudenbacher, F.;Hirata, K.;Berberich, P.;Kinder, H.
  14. Appl. Phys. Lett. v.61 Huang, R.;Kitai, A. H.
  15. Appl. Phys. Lett. v.54 Kwak, B. S.;Boyd, E. P.;Zhang, K.;Erbil, A.;Wilkins, B.
  16. Appl. Phys. A v.54 Zhao, Y.-W.;Suhr, H.
  17. J. Crystal Growth v.128 Lu, Z.;Feigelson, R. S.;Route, R. K.;DiCarolis, S. A.;Hiskes, R.;Jacowitz, R. D.
  18. Mater. Lett. v.26 Boo, J.-H.;Yu, K.-S.;Koh, W.;Kim, Y.
  19. J. Mat. Sci. Lett. v.3 Kamta, K.;Shibata, Y.;Kishi, Y.
  20. Jpn. J. Appl. Phys. v.32 Fujii, E.;Tomozawa, A.;Fujii, S.;Torii, H.;Hattori, M.;Takayama, R.
  21. Jpn. J. Appl. Phys. v.33 Fujii, E.;Tomozawa, A.;Fujii, S.;Torii, H.;Takayama, R.;Hirao, T.
  22. Physica C v.180 Vallet-Regi, M.;Labeau, M.;Garcia, E.;Cabanas, M. V.;Gonzalez-Calbet, J. M.;Delabouglise, G.
  23. Jpn. J. Appl. Phys. v.29 Maruyama, T.;Shionoya, J.
  24. J. Alloys Compd. v.195 Musolf, J.;Boeke, E.;Waffenschmidt, E.;He, X.;Heuken, M.;Heime, K.
  25. Angew. Chem. Int. Ed. Engl. v.28 Cowley, A. H.;Jones, R. A.
  26. J. Phys. Ⅳ v.5 Maury, F.
  27. Chem. Vap. Deposition v.2 Maury, F.
  28. Chem. Vap. Deposition v.2 Bochmann, M.
  29. J. Mater. Chem. v.4 Auld, J.;Houlton, D. J.;Jones, A. C.;Rushworth, S. A.;Malik, M. A.;O'Brien, P.;Critchlow, G. W.
  30. J. Am. Chem. Soc. v.97 Ashby, E. C.;Nackashi, J.;Parris, G. E.