A Study on Internal Stress of a-C : H Thin Films Synthesized by RF-PECVD

RF-PECVD법에 의해 합성된 a-C : H 박막의 내부응력에 관한 연구

  • 손민규 (한양대학교 금속재료공학과) ;
  • 이상현 (한양대학교 금속재료공학과) ;
  • 김성녕 (한국생산기술연구원 생산기반기술센터) ;
  • 이재성 (한양대학교 금속재료공학과) ;
  • 고명완 (한국생산기술원 생산기반기술센터)
  • Published : 1998.02.01

Abstract

RF-PECVD로 합성된 a-C : H 박막의 내부압축응력 발생 원인을 규명하기 위하여 mesh에 RF power를 인가하는 새로운 장치를 고안, 기판지지대에 RF power를 인가하는 기존의 장치에서 합성된 시편과의 비교.분석을 수행하였다. Raman 분광 분석과 내부압축응력 측정 결과로부터 mesh 장치에 의해 합성되어진 시편의 $sp^{3}$$sp^{2}$비가 감소함에 따라 내부압축응력이 감소하는 것을 관찰할 수 있었으며, 또한 미세경도와 밀착강도를 측정하였다. 그리고 내부합축응력 발생에 대한 이온충돌효과를 확인하기 위해서 Ar보조가스를 첨가하였다. 그 결과 입자의 peening 효과에 의한 내부압축응력의 발생을 확인할 수 있었다.

Keywords

References

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