Abstract
The crystallographic and high frequency characteristics of $Fe_{73.9}Cu_{1.0}Nb_{3.5}Si_{14.0}B_{7.6}$ soft magnetic alloys were investigated under the magnetic field annealing. As-cast ribbon with which already imbedded nanocrystalline Fe-Si phase on the surface have a preferred orientation with (400) plane to surface and also with the [011] direction parallel to the ribbon length. The extra nanocrystalline Fe-Si phase appeared throughout at 45$0^{\circ}C$ in samples with or without the longitudinal magnetic field. However the formation of nanocrystalline phase does not appear on the suface layer until 50$0^{\circ}C$ annealing temperature under the transverse field. The cryststallization fraction of annealed samples with longitudinal magnetic field is higher than that of samples without magnetic field. When the transverse magnetic field is applied, the crystallization fraction does not increases but decreases until 50$0^{\circ}C$. However the crystallization of internal regions can be confirmed by X-ray diffraction measurement via tilting the sample. It was found that for all samples, the saturation induction were all same with 1.3 T. The coercive field of as-cast sample was 1.06 A/cm, but in annealed samples it decrease from 0.56 to 0.1 A/cm with increasing annealing temperature from 400 and 55$0^{\circ}C$, respectively. The squareness of annealed samples under transverse magnetic field has a small value than that of both without field and with longitudinal field annealing.
초미세결정립과 비정질을 동시에 포함하는 리본형 Fe73.9Cu1.0Nb3.5Si14.0B7.6 합금을 자기장 중 열처리한 시편의 결정？적 특성 및 고주파 연기자 특성을 인가 자기장과 열처리 온도에 따라하여 조사아였다. 제조된 리본의 표면에 석출된 Fe-Si 초미세결정립은 (400) 우선방위를 나타내는 동시에 리본길이방향으로 [011] 결정측이 형성되어 있음을 확인하엿다. 자기장을 인가하지 않거나 길이방향으로 자기장을 인가하여 열처리할 때 45$0^{\circ}C$에소 Fe-Si 초미세결정립이 석출되다, 폭방향의 자기장을 인가한 경우 초미세결정립의 석출은 지연되어 55$0^{\circ}C$에서 나타남을 확인하였다. 길이방향으로 자기장을 인가할 때 시편의 결정화 정도는 외부 자기장을 인가하지 않은 경우에 비해 조금 증가하였다. 그러나, 시편의 각도를 기울여 측정된 X-선 회절패턴으로부터 시편내부는 표면과 달리 결정화가 진행되고 있음을 확인하였다. 열처리한 시편의 포화자기유도는 1.3T로 비슷하였다. 열처리전 리본의 보자력의 크기는 1.06A/츠이었으나, 열처리한 시편은 열처리 온도가 40$0^{\circ}C$에서 55$0^{\circ}C$로 증가함에 따라 0.56A/cm에서 0.1A/cm로 감소하였다. 폭방향의 자기장을 인가한 경우 각형비는 자기장을 인가하지 않거나 길이방향으로 자기장을 인가하여 열처리한 시편의 각형비보다 작았다.