Korean Journal of Materials Research (한국재료학회지)

Materials Research Society of Korea (한국재료학회)
권호 표지

Effect of Deposition Conditions on the Morphology of MPECVD Diamond Thin Films

MPECVD 다이아몬드 박막의 표면 형상에 미치는 증착조건의 영향

  • 최지환 (한양대학교 금속공학과) ;
  • 이세현 (한양대학교 금속공학과) ;
  • 이유기 (한양대학교 금속공학과) ;
  • 박정일 (국립기술품질원 무기화학과) ;
  • 이은아 (국립기술품질원 무기화학과) ;
  • 박광자 (국립기술품질원 무기화학과) ;
  • 박종완 (한양대학교 금속공학과)
  • Published : 1997.05.01
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Abstract

다이아몬드 형성에 미치는 MPECVD 증착조건에 관하여 연구하였다. 증착 실험 기판은 Si p-type (100)wafer를 사용하였으며 다이아몬드 박막은 다음과 같은 조건하에서 증착되었다. 메탄 농도:0.75%(3scm)-3%(12scm),산소 농도:0%-0.5%(2scm), 반응 압력:20torr-80torr, 반응 온도:$600^{\circ}C$-90$0^{\circ}C$. 낮은 증착온도($600^{\circ}C$)에서는 (100)의 우선성장면을 보였고 온도가 증가함에 따라 (100)과 (111)이 혼재된 cubo-octahedron이 형성되었고 90$0^{\circ}C$에서는 (111)의 우선성장면을 가징 octahedron이 형성되었다. 산소가 첨가됨에 따라 높은 메탄농도에서도 양질의 다이아몬드가 형성되었다. 낮은 압력하(200torr)에서는 비정질탄소가, 높은 압력하(80torr)에서는 양질의 다이아몬드가 형성되었다.

Keywords

References

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