초록
10Gbps급 이상의 광통신에 적합한 성능을 가지는 InAlAs/InGaAs 다중양자우물 구조(MQW) 애벌런치 광다이오드(APD)를 제작하였다. 본 논문에서는 MBE로 성장된 에피구조에서 높은 농도로 도핑된 field butter layer의 Be dopant의 다중양자우물 구조로의 indiffusion이 소자의 암전류 특성과 이득 특성에 이치는 영향을 분석하였다. Be의 indiffusion은 작은 양으로도 소자의 특성에 큰 영향을 끼칠 수 있음이 보여졌으며 spacer layer를 삽입함으로써 높은 대역폭을 유지하면서 낮은 암전류 특성을 나타내는 소자를 제작함으로써 space layer의 삽입이 indiffusion의 영향을 효과적으로 막을 수 있음을 보였다.
In this paper, we report an InGaAs/InAlAs multi-quantum well (MQW) avalanche photodiode (APD) showing a performance suitable for 10 Gbps lightwave communications. In designing the device, emphasis is given on the effect of indiffusion of Be dopant from the highly doped field layer into the MQW multiplication region. It is found that a small amount of diffusion can alter the dark current and gain characteristics of the device significantly. A spacer used to restrain such indiffusion is shown effective in reducing dark current (500 nA at a gain of 10) while maintaining a high bandwidth (10 GHz at a gain of 10) devices grown by molecular beam epitaxy.
