Abstract
The theory previously proposed to simulate hole depth in the weak burn intensity limit is extended to examine the hole depth at arbitrary burn intensity using 3-level system model. The hole spectrum simulated using constant fluence gives different hole depth for strong burn intensity while it gives same hole depth for weak burn intensity region. The calculated hole growth curves are compared with published experimental data for oxazine720 in glycerol and tetracene in MTHF glass.
Weak burn intensity limit에서 홀의 깊이를 계산하는 기존의 이론을 임의의 burn 세기에서도 계산할수 있도록 NPHB kinetic에 관한 유사 3-준위계를 이용하여 확장하였다, 이 모델은 같은 burn fluence에 대하여 burn 세기가 클 때는 다른 홀의 깊이를 burn 세기가 약한 경우에는 같은 홀의 깊이를 나타내었다. 이 모델을 이용하여 계산된 홀 성장곡선들과 기존의 oxzaine720/glycerol와 tetracene/MTHF glass의 실험 데이타를 비교하였다.