References
- J. Catal. v.73 Keller, G. E.;Bhasin, M. M.
- J. Phys. Chem. v.92 Champbell, K. D.;Zhang, H.;Lunsford, J. H.
- J. Phys. Chem. v.95 Feng, Y.;Nirranen, J.;Gutman, D.
- Semiconductor Measurements and Instrumentation Ruuyan, W. R.
- Bull. Korean Chem. Soc. v.15 Park, J. S.;Jun, J. H.;Kim, Y. R.;Lee, S. H.
- Ind. Eng. Chem. Res. v.27 DeBoy, J. M.;Hicks, R. F.
- Chem. Lett. Otsuka, K.;Liu, Q;Hatano, M.;Morikawa, A.
- Bull. Korean Chem. Soc. v.14 Jang, J. H.;Ryu, K. S.;Kim, D.;Lee, S. H.;Kim, K. H.;Yo, C. H.
- Soc. Prog. Chem. v.39 Lopato, L. M.;Lugin, L. I.;Shevchenko, A. V.
- J. Am. Chem. Soc. v.109 Lin, C.-H.;Ito, T.;Wang, J.-X,;Lunsford, J. H.
- J. Catal. v.119 Lane, G. S.;Miro, E.;Wolf, E.E.
- in Catalysis Science and Technology v.2 Tanabe, K.
- J. Am. Chem. Soc. v.111 Li, C.;Domen, K.;Maruya, K.;Onishi, T. J.
- Bull. Korean Chem. Soc. v.15 Park, J. S.;Kim, K. H.;Yo, C. H.;Lee, S. H.
- J. Catal. v.100 Otsuka, K.;Jinno, K.;Morikawa, A.