Journal of the Korean Vacuum Society (한국진공학회지)
- Volume 3 Issue 4
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- Pages.434-441
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- 1994
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- 1225-8822(pISSN)
Characterization of Diamond-like Carbon Films on Si-Wafer Deposited by DC Plasma CVD.
- Ju Tack Han (Department of Chemistry College of Natural Sciences Kyungpook National University) ;
- Jong-Gi Jee (Spectroscopy Laboratory Korea Research Institute of Standards and Science Taedok Science Town) ;
- Eun-joo Shin (Spectroscopy Laboratory Korea Research Institute of Standards and Science Taedok Science Town) ;
- Dongho Kim (Spectroscopy Laboratory Korea Research Institute of Standards and Science Taedok Science Town)
- Published : 1994.12.01
Abstract
메탄과 수소 혼합가스로 직류 플라즈마 화학 증착법을 이용하여 방전전류 반응압력 메탄농도 및 피착체의 온도를 변화시키면서 다이아몬드 유산탄소 박막(DLCF)을 Si(111)-웨이퍼 위에 합성하였다. 주 사전자 현미경(SEM)과 레이져 Raman 스펙트로포토메터로 확인된 양질의 DLCF를 얻은 조건은 방전전 류 반응 압력, 메탄농도 그리고 피착체의 온도가 각각 480mA, 32 Torr, 1.0 vol% 및 85
Keywords