Journal of the Korean Vacuum Society (한국진공학회지)
- Volume 3 Issue 3
- /
- Pages.264-268
- /
- 1994
- /
- 1225-8822(pISSN)
AES and XPS Analysis of GaAs Surfaces Sulfurized by $H_2S$ Gas
$H_2S$ 가스로 유황처리된 GaAs 표면의 AES 및 XPS 분석
Abstract
본연구에서는 HCl 또는 NH4OH로 산화막을 식각학 GaAs 표면에 H2S 가스를 이용하여 유황처 리하였다. 표면의 화학적 조성 및 결합상태를 측정하기 위하여 AES 및 XPS를 사용하였다. 시편들은 30,200 및
Keywords