A Study on the MOCVD Growth and Characterization of Resonant Tunneling Structures

공명 투과 구조의 MOCVD 성장 및 특성에 관한 연구

GaAs/AIGaAs resonant tunneling structures have been grown by atmospheric pressure MOCVD. Resonant tunneling diodes fabricated with the structure grown at 650t showed a high peak-to-valley (P/V) current ratio of 2.35 at room temperature. P/V current ratio increased to 15.3 at 77K. Numerically calculated peak current agrees well with the experimental result. Resonant tunneling diodes with AIGaAs as a barrier and InGaAs as a quantum well and a spacer layer yielded a high P/V current ratio of 4.0 and a peak current density of 8.6KA/c# at room temperature because of increased carrier supply.

대기압 MOCVD방법으로 이중 장벽 구조의 공명 투과 소자를 제작하여 상온과 77K에서의 부저항 특성을 특정하였다. GaAs 양자 우물과 spacer, AIGaAs 장벽을 사용하여 성장온도를 변화시켜 공명 투과 소자를 제작한 결과 상온에서 2.35, 77K에서 15.3의 높은 peak-to-valley 전류비를 얻었다 컴퓨터 모의 실험에서는 coherent 투과만을 고려하여 peak 전류를 계산해서 실험치와 잘 일치하는 것을 알 수 있었다. AlGaAs 장벽에 InGaAs 양자 우물과 spacer를 사용하여 전자의 공급량을 증가시킨 구조에서는 상온에서 8.6KA/cm의 높은 peak 전류와 4.0의 큰 peak-to-valley 전류비를 얻었다.