Journal of the Korean Magnetics Society (한국자기학회지)
- Volume 3 Issue 2
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- Pages.87-93
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- 1993
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- 1598-5385(pISSN)
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- 2233-6648(eISSN)
Structure and Magnetic Properties of Fe-N Films Deposited by Dc Magnetron Sputtering
DC Magnetron Sputtering 방법으로 증착한 Fe-N 박막의 구조와 자기적 성질
Abstract
Iron nitride (Fe-N) magnetic thin films were deposited using a DC magnetron sputtering system. Microstructures and magnetic properties were examined as a function of deposition power and nitrogen gas input ratio. The nitrogen content in the film was found to be the major factor determining the microstructure and the magnetic properties. The films deposited at low nitrogen input ratios have an
질화철(Fe-N) 박막을 DC magenetron sputtering 방법으로 증착하였다. 스퍼터링 기체중의 질소유량비와 스퍼터링 power가 박막의 구조와 조성, 자기적 특성에 미치는 영향을 조사하였다. 증착 박막중의 질소원자 함유량은 박막의 구조, 생성상 및 자기적 특성을 결정짓는 지배적인 인자이다. 낮 은 질소 유량비에서 증착하였을 경우 박막은 질소 침입형
Keywords