한국결정성장학회지 (Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology)
- 제3권2호
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- Pages.107-116
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- 1993
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- 1225-1429(pISSN)
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- 2234-5078(eISSN)
저압 화학 기상 증착 조건에서 Si$H_4$ , W$F_6$ 환원 반응에 의한 텅스텐 박막의 성장 양식
Growth Mode of Tungsten Thin Film by Using Si$H_4$ Reduction of W$F_6$ in LPCVD System
- 김성훈 (서울대학교 자연과학대학 화학과)
- Kim, Sung Hoon (Department of Chemistry, Seoul National University)
- 발행 : 1993.04.01
초록
LPCVD 조건하에서 Si 기판을 이용하여 W
Tungsten thin film was deposited on Si( 100) substrate by either Si substrate reduction of W
키워드