Korean Journal of Materials Research (한국재료학회지)
- Volume 2 Issue 1
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- Pages.76-82
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- 1992
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- 1225-0562(pISSN)
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- 2287-7258(eISSN)
Deposition Characteristics of $TEOS-O_3$ Oxide Film on Substrate
기판 막질에 따른 $TEOS-O_3$ 산화막의 증착 특성
- Ahn, Yong-Cheol (Sumsung Semiconductor R & D center) ;
- Park, In-Seon (Sumsung Semiconductor R & D center) ;
- Choi, Ji-Hyeon (Sumsung Semiconductor R & D center) ;
- Chung, U-In (Sumsung Semiconductor R & D center) ;
- Lee, Jeong-Gyu (Sumsung Semiconductor R & D center) ;
- Lee, Jeong-Gyu (Sumsung Semiconductor R & D center)
- 안용철 (삼성전자(주) 반도체부문) ;
- 박인선 (삼성전자(주) 반도체부문) ;
- 최지현 (삼성전자(주) 반도체부문) ;
- 정우인 (삼성전자(주) 반도체부문) ;
- 이정규 (삼성전자(주) 반도체부문) ;
- 이종길 (삼성전자(주) 반도체부문)
- Published : 1992.02.01
Abstract
Deposition of
Keywords