Journal of the Korean Vacuum Society (한국진공학회지)
- Volume 1 Issue 1
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- Pages.198-205
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- 1992
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- 1225-8822(pISSN)
Optimization of Spin-On-Glass Planarization Process Using Statistical Design of Experiments
통계적 실험계획법을 이용한 SOG 평탄화 공정의 최적화
Abstract
Abstract-Planarieation technology, which is essential to VLSI, has been developed using non-etch back Spin- On-Glass (SOG). Process factors for 1.5 micron double metal technology are optimized by the statistical design of experiments. Optimum conditions are found to be a process with twice SOG coating, sufficiently long hot plate baking at 300t, and furnace curing for 40 minutes below 400
고집적 회로제작에 필수적인 평탄화 기술을 SOG를 이용하여 개발하였다. 1.5 micron double metal 기술의 공정변수들을 통계적 실험계획법을 적용하여 주요변수들을 찾 아내고 그들을 최적화하였다. 최적공적 조건은 SOG 도포 횟수는 2회, hot plate bake는
Keywords