E2M - 전기 전자와 첨단 소재 (Electrical & Electronic Materials)

  • 제5권4호
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  • Pages.385-392
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  • 1992
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  • 2982-6268(pISSN)
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  • 2982-6306(eISSN)
한국전기전자재료학회 (The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers)
권호 표지

급속열산화방법으로 형성된 InP 자연산화막의 특성

Properties of InP native oxide films prepared by rapid thermal oxidation method

  • 김선태 (대전공업대학 재료공학과) ;
  • 문동찬 (광운대학교 전자재료공학과)
  • 발행 : 1992.12.01
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초록

급속열산화방법으로 400-650.deg.C의 온도범위에서 10-600초 동안 n형 InP기판위에 InP자연산화막을 형성하고 산화막의 성장율, 성장기구와 화학적 구성성분 및 전기적 성질등을 조사하였다. InP자연산화막의 두께는 산화시간이 제곱근에 비례하였고 산화온도에 대하여 지수함수적으로 증가하였다. InP자연산화막은 320.deg.C의 온도에서 초기성장이 이루어지고 산소원자들이 InP내부로 확산되는 과정으로 형성되며 산화막 형성에 필요한 활성화에너지는 1.218eV이었다. InP 자연산화마그이 화학적성분은 In$_{2}$)$_{3}$, P$_{2}$O$_{5}$ 및 InPO$_{4}$의 산화물이 혼합하여 구성된다. Au/InP쇼트키다이오드와 InP자연산화막을 게이트절연물로 사용한 MOS 다이오드의 전기적 특성은 다이오드방정식에 따르는 전류-전압특성을 보였다.

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