ETRI Journal
- 제11권3호
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- Pages.96-108
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- 1989
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- 1225-6463(pISSN)
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- 2233-7326(eISSN)
Polyoxide 절연막의 특성
- 발행 : 1989.10.01
초록
다결정 실리콘 위에 열산화 방법을 통해 형성된 산화막(Polyoxide)은 기억소자에서의 capapcitor 절연막이나, EPROM(Erasable Programmable Read Only Memory)과 EEPROM(Electrically EPROM) 소자의 tunneling 산화막으로사용된다. 이러한 Polyoxide 절연막은 낮은 누설전류, 높은 절연파괴전기장, 높은 철연파괴 전류밀도 등의 특성을 가져야 한다. 본 논문에서는 공정조건 변화에 따른 Polyoxide의 특성을 조사 분석하였다.
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