전자통신동향분석 (Electronics and Telecommunications Trends)

한국전자통신연구원 (Electronics and Telecommunications Research Institute)
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ECR 플라즈마를 이용한 반도체 공정기술

  • 발행 : 1988.07.01
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초록

ECR 플라즈마는 활성도가 크고 지향성이 강한 고에너지 빔으로서, 고속.고정밀.고 선택비의 식각공정과, 저온.저손상.고 평탄화의 증착공정, 3차원 구조에도 불순물을 원하는 깊이만큼 도우핑할 수 있는 불순물 주입공정 등에 폭넓게 응용될 수 있다.

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