ETRI Journal
- Volume 10 Issue 3
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- Pages.230-241
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- 1988
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- 1225-6463(pISSN)
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- 2233-7326(eISSN)
반도체기술 개발을 위한 XPS의 이용
- Published : 1988.10.01
Abstract
XPS는 표면과 계면의 구성원소 및 화학적 결합상태를 밝혀내는 기술로서 반도체 소자제조의 주된 단위인 박막의 연구에 중요하게 이용되고 있다. 본 고에서는 XPS의 분석원리, 장비의 구성 등에 대해 설명하고 XPS의 특성을 잘 활용한 반도체 표면연구에의 응용사례를 소개한다. .
Keywords