ETRI Journal
- Volume 10 Issue 1
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- Pages.96-108
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- 1988
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- 1225-6463(pISSN)
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- 2233-7326(eISSN)
초고집적 반도체의 미세선폭 가공기술
Abstract
반도체 소자의 집적도가 증가하고 최소선폭이 감소함에 따라 소자가공시 그것이 중간중첩 정도(overlay accuracy)에 미치는 요인을 파악하였고, 광학적 노광장치에서 오는 한계성을 촛점심도(depth of focus) 측면에서 고찰하였으며, 차세대 노광장치인 전자빔 및 X-선 노광장치에 대해 그 장단점을 파악하여
Keywords