한국표면공학회지 (Journal of the Korean institute of surface engineering)

  • 제21권4호
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  • Pages.183-192
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  • 1988
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  • 1225-8024(pISSN)
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  • 2288-8403(eISSN)
한국표면공학회 (The Korean Institute of Surface Engineering)
권호 표지

양극산화피막 형성에 관한 연구(II)

Anodic Film Formation on Aluminum(II)

  • 한성호 (한국기계연구소 표면공학연구소)
  • 발행 : 1988.12.01
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초록

양극산화피막의 조성은 현대 장비의 정밀도가 nano 영역까지의 성분 분석이 이루어 짐의로서, 최근에 와서 금속한 진전을 나타내고 있다. 특히 TEM. EDC System을 이용한 Ultramicrotomed 시편의 정밀분석 기술은 이제 한계를 나타내고 있는 것 같다. 본고에서는 반응 Mechanism을 연구하는데 가장 필수적인 분야인 양극산화피막의 조성에 관해 1950 연대 이후 어떻게 연구되고 설명되었는가를 조명하므로 해서, 그 응용의 기반을 확고히 하고자 한다.

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