Journal of the Korean institute of surface engineering (한국표면공학회지)
- Volume 21 Issue 4
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- Pages.183-192
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- 1988
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- 1225-8024(pISSN)
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- 2288-8403(eISSN)
Anodic Film Formation on Aluminum(II)
양극산화피막 형성에 관한 연구(II)
Abstract
양극산화피막의 조성은 현대 장비의 정밀도가 nano 영역까지의 성분 분석이 이루어 짐의로서, 최근에 와서 금속한 진전을 나타내고 있다. 특히 TEM. EDC System을 이용한 Ultramicrotomed 시편의 정밀분석 기술은 이제 한계를 나타내고 있는 것 같다. 본고에서는 반응 Mechanism을 연구하는데 가장 필수적인 분야인 양극산화피막의 조성에 관해 1950 연대 이후 어떻게 연구되고 설명되었는가를 조명하므로 해서, 그 응용의 기반을 확고히 하고자 한다.
Keywords