Electrical & Electronic Materials (E2M - 전기 전자와 첨단 소재)

The Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers (한국전기전자재료학회)
권호 표지

A study on the characteristics of negative photoresist using inorganic a-$Se_{75}Ge_{25}$ thin film

무기질 a-$Se_{75}Ge_{25}$ 박막을 이용한 네가티브형 포토레지스트의 특성연구

  • 정홍배 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 허훈 (광운대학교 전자재료공학과) ;
  • 김태완 (광운대학교 전자재료공학과)
  • Published : 1988.12.01
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Abstract

본 연구에서는 미세패턴 형성을 위한 비정질 $Se_{75}Ge_{25}$박막의 네가티브형 포토레지스토에 대하여 고찰하였다. 습식현상공정을 통해 대비도가 포지티브형인 경우 1.4였고 네가티브형인 경우 2.9를 나타내어 네가티브형인 경우가 미세선폭 조절능력이 더 우수함을 알 수 있었다. 표면사진으로부터 약 1.mu.m정도의 미세패턴을 얻었음을 확인할 수 있었다.

Keywords