On the Transmittances of Thin Metal Films for the Evaporating conditions

증착조건에 따른 금속박막의 광투과율

The transmittances of active metal(Al), transition metals (Cr, Ti, Mn, Ni), and nobel metal(Cu) thin films were investigated. At the pressure range of $6{\times}10^{-5}$ mbr and evapora-tion rate of 0.5 -2A/sec, the metals were evaporated with $85{\AA}$ thickness or so on the slide G1ass. We found that the evaporation rates and vacuum levels strongly influence on the optical properties of thin metal films by the reaction with oxygen. Especially, the transmittances of the metals (Al, Cr, Ti, Mn, Ni) with strong oxygen affinity were able to be enhanced by the evaporating processes of low vacuum level or low evaporating rate.

Oxygen-active 금속, 천이금속 및 oxygen-noble 금속, 즉, Al, Ti, Mn, Ni 그리고 Cuㄹ박막의 광투과율을 조사하였다. Slide-glass 위에 $6{\times}10^{-5}$ ~ $2{\times}10^{-4}$ mbr 압력범위와 0.5 ~ $2{\AA}$/sec 의 증착속도 범위에서 두께를 $85{\AA}$내외로 하여 증착하였다. 증착속도와 진공도는 금속박막의 광학적 성질에 큰 영향을 미치며 이는 주로 산소개입에 의한 것임을 알 수 있었다. 특히 광투과율이 매우 낮다고 알려진 산소와의 친화력이 강한 금속, 즉, Al, Ti, Cr 그리고 Ni의 광투과율을 저 진공도나 느린 증착속도에 의한 증착공정으로 상당히 향상시킬 수 있었다.