Effects of Mask Misalignment and Crystal Defects on the Breakdown characteristics in the PN Junction Isolation

마스크 오정렬 및 결정 결함이 PN 접합 아이솔레이션의 항복 특성에 미치는 영향

Breakdown characteristics, specifically, soft breakdown phenomena of the PN junction isolation were studied in terms of their dependence on the mask misaliglment and the amount of process-related defects. Varying the distance between the buried layer and the isolation by intentional misalignment of the isolation masts had no effects on the soft breakdown phenomena except for the change of the breakdown voltage. The soft breakdown phenomena, as characterized as a state of excessive reverse current below the breakdown voltage, were found out to result mainly from the oxidation-induced stacking faults (OSF) introduced during the fabrication process.

PN 접합 아이솔레이션의 항복 특성, 특히 소프트 항복 현상에 대해, 아이솔레이tus 마스크를 오정렬시킨 정도와 공정중 생성된 결함들의 영향을 고찰하였다. 그 결과, 아이솔레이션 마스크를 인위적으로 오정렬시킴으로써, 매입층과 아이솔레이션 사이의 간격을 변화시켰을 때, 이것은 항복 전압에만 영향을 줄 뿐 소프트 항복 현상과는 무관하였다. 소프트 항복 현상, 즉 항복 전압 이하에서 역방향 누설 전류가 크게 증가하는 것은 소자 제조 공정중 생성된 산화 적층 결함(OSF)에 의한 것으로 나타났다.