HCI Gettering Oxidation을 이용한 BJT의 저잡음화에 관한 실험적 연구

An Experimental Study on the Low Noise Property of the Bipolar Junction Transistor Fabricated by HCI Gettering

본 논문에서는 저잡음 BJT를 만들기 위하여 HCI gettering oxidation 방법을 적용하였다. HCI 양의 변화에 따른 플리키 잡음 spectral intensity의 변화를 측정한 결과 BJT의 플리키 잡음이 표면 상태에 의존하고 있음과 저잡음 BJT를 만들기 위한 oxidation 공정의 gettering 조건은 HCI 양이 2%일 때 최적임을 알 수 있었다. 또 에미터 광산 공정에서 형성된 PSG층의 gettering 효과는 HCI gettering 결과에 비해 미약함도 알게 되었다.

In this paper, the authors applied the method of hydrogen chloride gettering oxidation to fabricate the low noise bipolar transistor. The results of measurements of the effect of guttering on the variation of flicker noise spectral intensity for variable HCI concentrations indicate that flicker noise in bipolar than-sistor is dependent on the surface condition and that the gettering in a mixture of 2% HCI in oxidation produced the optimal results in the fabrication of the low noise device. In addition, it was also noted that the PSG layer formed by the emitter source (phosphorus) did not have so much guttering effect as in the process with HCl getterinng.