Development of photo simulation for camouflage pattern evaluation

위장무늬 성능 평가를 위한 포토시뮬레이션 기술 개발

  • Kim, Un-Yong (Spatial Optical Information Research Center, Korea Photonics Technology Institute) ;
  • Yun, Jeong-Rok (Dept. of Electronics and Computer Engineering, Chonnam National University) ;
  • Kim, Hoe-Min (Spatial Optical Information Research Center, Korea Photonics Technology Institute) ;
  • Chun, Sungkuk (Spatial Optical Information Research Center, Korea Photonics Technology Institute)
  • 김운용 (한국광기술원 공간광정보연구센터) ;
  • 윤정록 (전남대학교 전자컴퓨터공학과) ;
  • 김회민 (한국광기술원 공간광정보연구센터) ;
  • 전성국 (한국광기술원 공간광정보연구센터)
  • Published : 2020.07.15

Abstract

다양한 환경 변화에 따라 적용 가능한 최적의 위장무늬 개발의 필요성이 증대됨에 따라 위장무늬 성능 평가를 위한 포토시뮬레이션 기술 또한 주목받고 있으나 포토시뮬레이션 저작에 관한 연구는 미비하다. 본 논문에서는 작전환경 이미지 상 위장무늬 이미지의 배치 및 기 배치된 위장무늬의 탐지 시간을 측정하는 소프트웨어인 포토시뮬레이션 기술 개발에 대해 서술한다. 개발된 포토시뮬레이션은 작전환경 및 위장무늬 이미지 로드, 사용자 입력도구를 통한 대상 작전환경 이미지 상 위장무늬 이미지의 배치 및 저작, 저작 된 작전 환경 이미지 상 위장무늬 이미지를 모니터에 출력, 사용자 입력도구를 통한 작전환경 이미지 상 위장무늬 이미지의 탐지 및 탐지 시간 측정 기술을 포함한다. 결과에서는 개발 포토시뮬레이션 기술을 통한 위장무늬 이미지 배치 및 저작, 그리고 위장무늬 이미지의 평균 시간 측정 결과 예시를 보여준다.

Keywords