Conductive Properties of Thin Film for Non-Volatile Memory according to Heat Treatment

열처리에 따른 비휘발성 메모리용 박막의 전도 특성

본 연구에서는 열처리 온도에 따른 전도 특성을 조사하기 위하여 RF magnetron sputtering을 이용해서 Si기판 위에 SBN 박막을 증착시킨 후, SBN 박막에 $650{\sim}800[^{\circ}C]$의 온도 범위에서 열처리를 하였다. $650[^{\circ}C]$에서 열처리된 박막의 경우 표면 거칠기는 약 0.42[nm]로 나타났으며, -5~+5[V]의 전압 범위에서 누설전류밀도는 $10-5[A/cm^2]$ 이하로 안정된 값을 나타내었다.