Proceeding of EDISON Challenge (EDISON SW 활용 경진대회 논문집)

Korea Institute of Science and Technology Information (한국과학기술정보연구원)
권호 표지

Enhancement of TMD FET performance according to 2H-MoS2 monolayer structure

  • Choe, Jun-Haeng (Department of Electronics and Electrical Engineering, Hongik University) ;
  • Jeong, Gu-Hyeok (Department of Electronics and Electrical Engineering, Hongik University)
  • Published : 2017.03.24
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Abstract

본 논문에서는 Edison simulation을 이용하여 2D TMD(Transition Metal Dichalcogenides)물질인 $MoS_2$의 monolayer 구조에서 화학/물리적 특성 분석을 통해 대칭 구조인 $2H-MoS_2$의 안정성과 1.8 eV의 direct bandgap을 추출하여 전자재료로서의 가치를 확인하였다. 또한 Edison TMD FET 소자 특성 simulation을 이용하여 $2H-MoS_2$ 결정 면의 이방성으로 인한 소자 성능의 변화를 확인 하였고, 최적의 결정 면에서 최적화된 소자를 설계하여 29.6% 개선된 $I_{on}/I_{off}$ 값과 32.6% 개선된 mobility 값을 추출하였다.

Keywords