ITO 박막 증착 공정시 발생하는 실시간 플라즈마 광 측정 및 산소가스유량제어

  • 박혜진 (광운대학교 전자바이오물리학과) ;
  • 최진우 (광운대학교 전자바이오물리학과) ;
  • 조태훈 (광운대학교 전자바이오물리학과) ;
  • 황상혁 (광운대학교 전자바이오물리학과) ;
  • 박종인 (광운대학교 전자바이오물리학과) ;
  • 윤명수 (광운대학교 전자바이오물리학과) ;
  • 권기청 (광운대학교 전자바이오물리학과)
  • 발행 : 2015.08.24

초록

현재 투명전극(Transparent Conductive Oxide: TCO)은 평판 디스플레이, 태양전지, 터치패널, 투명 트렌지스터의 전극 등 여러 분야에서 연구되어지고 있으며, 주로 IT 산업의 핵심재료로 ITO (Indium Tin Oxide)가 사용되고 있다. ITO 박막은 주로 스퍼터 공정을 통해 제작이 되며, 전기전도도가 우수하며 높은 Optical Band Gap을 가지고 있어 투명전극으로 많이 사용되고 연구되어지고 있다. 산화물 박막을 증착할 때 산소유량에 따라 박막의 물성이 변하거나 박막의 특성이 저하되는 현상 등을 가지고 있어 공정시 산소유량이 중요한 변수로 작용하게 된다. 본 연구에서는 증착 공정 중 발생하는 플라즈마의 방출광을 가지고 산소의 대표적인 파장의 방출광을 관찰하여 방출광이 변화함에 따라 실시간으로 산소가스유량이 제어됨을 확인하였으며, 또한 산소유량제어를 통해 생성된 박막의 전기적 특성 및 광학적 특성 등 박막의 물성을 비교하였다.

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