한국표면공학회:학술대회논문집 (Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference)
- 한국표면공학회 2014년도 추계학술대회 논문집
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- Pages.254-255
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- 2014
다양한 RF Power로 제작한 비정질 IGZO TFTs의 특성 연구
TFTs characteristics of amorphous IGZO thin film fabricated with different RF Power
초록
RF magnetron sputtering법으로 증착한 비정질 IGZO 박막과 이를 Active layer로 이용한 TFT의 Transfer 특성에 대한 RF Power의 영향에 대해 연구하였다. Carrier concentration은 Sputtering 공정 중에 산소 분압으로 조절하였다. RF Power가 75에서 150W로 증가할수록 IGZO 박막의 Roughness는 12.2에서
키워드