Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)
- 2014.11a
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- Pages.192-192
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- 2014
High Temperature Oxidation of TiN, Ti(C,N), TiAlSiN, TiZrAlN, TiAlCrSiN Thin Films
TiN, Ti(C,N), TiAlSiN, TiZrAlN, TiAlCrSiN 박막의 고온산화
- Published : 2014.11.20
Abstract
TiN, Ti(C,N), TiAlSiN, TiZrAlN, TiAlCrSiN 박막을 제조한 후, 이 들의 고온산화 특성을 SEM, EPMA, TGA, TEM, AES 등을 이용하여 조사하고, 산화기구를 제안하였다. 산화속도, 생성되는 산화물의 종류와 분포는 박막의 조성, 산화온도, 산화시간에 따라 변하였다.
Keywords