Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)

The Korean Institute of Surface Engineering (한국표면공학회)
권호 표지

Layer by Layer Control of MoS2 Film through Atomic Layer Etching System

원자층식각시스템을 이용하여 이황화 몰리브뎀을 층간 컨트롤

  • 임태철 (성균관대학교 신소재공학과) ;
  • 전민환 (성균나노과학기술원) ;
  • 염근영 (성균관대학교 신소재공학과)
  • Published : 2014.11.20
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Abstract

Atomic layer etching system를 이용하여 $MoS_2$를 layer by layer control를 하였다. 이 방법이 전통적인 에칭에 비해서 low damage 층간 식각이 가능하였다.

Keywords