Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)
- 2013.05a
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- Pages.96-96
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- 2013
Study on Finding Optimum Condition of Plasma Treatment on SiO2 Substrates to Reduce Contact Resistance at Graphene-Metal Interface
그래핀-금속 접촉 저항을 줄이기 위한 SiO2 기판 플라즈마 처리의 최적화 연구
- Published : 2013.05.30
Abstract
그래핀과 금속 결합에서 발생하는 접촉 저항을 줄이기 위한 목적으로, 소자 제작에 사용되는
Keywords