Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)
- 2013.05a
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- Pages.65-66
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- 2013
Development of a Global Simulator and Databases for Semiconductor Etching Processes
반도체 식각 공정용 공간 평균 시뮬레이터 및 데이터베이스 개발
- Gwon, Deuk-Cheol ;
- Lee, Se-A ;
- Jang, Won-Seok ;
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Song, Mi-Yeong
;
- Yun, Jeong-Sik ;
- Yu, Dong-Hun ;
- Kim, Dae-Ung ;
-
Yu, Sin-Jae
;
- Im, Yeon-Ho
- 권득철 (국가핵융합연구소) ;
- 이세아 (전북대학교 화학공학과) ;
- 장원석 (국가핵융합연구소) ;
-
송미영
(국가핵융합연구소)
;
- 윤정식 (국가핵융합연구소) ;
- 유동훈 ((주)경원테크) ;
- 김대웅 (한국표준과학연구원) ;
-
유신재
(한국표준과학연구원)
;
- 임연호 (전북대학교 화학공학과)
- Published : 2013.05.30
Abstract
최근 개발된 수치해석 알고리즘 및 RF sheath 모델을 적용하여 반도체 식각 공정용 공간 평균 시뮬레이터를 개발하였다. 개발된 시뮬레이터는 전자가열 모듈, 수송 모듈, 그리고 RF sheath 모듈로 구성된다. 유도결합 플라즈마원에 대한 전자가열모듈은 비충돌 과정인 anomalous skin effect가 포함된 Yoon의 모델을 적용하였고, 축전결합 플라즈마원에 대해서는 RF sheath 모델을 수치적으로 풀어 흡수된 파워를 결정하고 수송 모듈과 일관성을 잃지 않게 결합되었다. RF sheath 모듈에서는 Dai의 collisonless sheath 모듈을 적용하였고 RF 펄싱이 적용될 수 있도록 확장하였다. 특히, 식각 공정에 사용되는 fluorocarbon 플라즈마에 대한 데이터베이스를 개발하였고, 또한 진단 데이터와의 비교를 통해 데이터베이스를 최적화하였다.
Keywords