A Study on the Contrast Improvement for Photo Lithography Pattern by Optimization of Coma Factor in Geometrical Optics

기하 광학적 Coma 성분 최적화를 통한 Photo Lithography 패턴 Contrast 향상에 관한 연구

  • 이강해 (삼성전자공과대학교 반도체공정학과) ;
  • 김종규 (삼성전자 반도체 연구소 공정개발)
  • Published : 2013.05.29