Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference (한국표면공학회:학술대회논문집)
- 2012.11a
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- Pages.192-193
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- 2012
Analysis of a modulated pulse plasma system by a triple probe and ICCD-OES
삼중 프로브와 ICCD-OES를 이용한 modulated pulse plasma의 분석
Abstract
2차 플라즈마를 사용하지 않고도 스퍼터링된 입자의 높은 이온화율을 얻을 수 있는 고전력 마그네트론 스퍼터링 기술은 최대
Keywords