플라즈마 처리에 따른 그래핀의 결함(Defect)발생 연구

  • 임영대 (성균관대학교 나노과학기술협동학부) ;
  • 라창호 (성균관대학교 나노과학기술협동학부) ;
  • 이승환 (성균관대학교 나노과학기술협동학부) ;
  • 유원종 (성균관대학교 나노과학기술협동학부)
  • Published : 2012.11.08

Abstract

플라즈마 처리에 따른 그래핀의 결함발생 연구에 대해 보고한다. 본 연구에 적용된 그래핀은 그라파이트에서 박리된 그래핀 (Exfoliated graphene: EG)과 CVD 방법으로 합성된 그래핀(CVD-G)이다. 본 연구에서는 플라즈마에 처리조건에 따른 CVD-G와 EG 간의 차이점에 대해 실험적 분석 및 이론적 해석을 수행하였다.

Keywords